8 dyuymli 200 mm silikon karbid SiC gofretlari 4H-N tipidagi ishlab chiqarish darajasi 500 um qalinligi

8 dyuymli 200 mm silikon karbid SiC gofretlari 4H-N tipidagi ishlab chiqarish darajasi 500 mm qalinlikdagi Tavsiya etilgan rasm

Qisqa Tasvir:

Shanxay Xinkehui Tech.Co., Ltd yuqori sifatli silikon karbid gofretlari va N- va yarim izolyatsion turdagi 8 dyuymgacha bo'lgan substratlar uchun eng yaxshi tanlov va narxlarni taklif qiladi.Kichik va yirik yarimo'tkazgich qurilmalari kompaniyalari va tadqiqot laboratoriyalari butun dunyo bo'ylab bizning silikon karbid gofretlarimizdan foydalanadilar va ularga tayanadilar.

Bizga elektron pochta xabarini yuboring

Mahsulot detali

Mahsulot teglari

200 mm 8 dyuymli SiC substrat spetsifikatsiyasi

Hajmi: 8 dyuym;

Diametri: 200mm±0,2;

Qalinligi: 500um±25;

Sirt yo'nalishi: [11-20]±0,5° ga 4;

Teshik orientatsiyasi:[1-100]±1°；

Chuqurlik chuqurligi: 1±0,25mm；

Mikroquvur: <1cm2;

Olti burchakli plitalar: Ruxsat berilmaydi;

Qarshilik: 0,015 ~ 0,028ũ;

EPD: <8000cm2;

TED:<6000cm2

BPD: <2000cm2

TSD: <1000cm2

SF: maydon<1%

TTV≤15um；

Warp≤40um；

Bow≤25um；

Poli maydonlar: ≤5%;

Scratch: <5 va Kümülatif uzunlik< 1 Gofret diametri;

Chipslar/Indents: Hech biri D>0,5 mm kenglik va chuqurlikka ruxsat bermaydi;

Yoriqlar: yo'q;

Dog': Yo'q

Gofret qirrasi: chamfer;

Yuzaki qoplama: Ikki tomonlama jilo, Si Face CMP;

Qadoqlash: Ko'p gofretli kassetali yoki bitta gofretli konteyner;

200 mm 4H-SiC kristallarini tayyorlashdagi hozirgi qiyinchiliklar

1) Yuqori sifatli 200 mm 4H-SiC urug'lik kristallarini tayyorlash;

2) Katta o'lchamdagi harorat maydonining bir xil emasligi va yadrolanish jarayonini nazorat qilish;

3) Kattalashgan kristall o'sish tizimlarida gazsimon komponentlarning transport samaradorligi va evolyutsiyasi;

4) Kristalning yorilishi va katta o'lchamdagi termal stressdan kelib chiqqan nuqsonlarning ko'payishi.

Ushbu qiyinchiliklarni bartaraf etish va yuqori sifatli 200 mm SiC gofretlarini olish uchun taklif etiladi:

200 mm urug'lik kristalini tayyorlash nuqtai nazaridan, tegishli haroratli dala oqimi maydoni va kengaytiruvchi yig'ish o'rganildi va kristal sifati va kengayish hajmini hisobga olish uchun ishlab chiqilgan;150 mm SiC se:d kristalidan boshlab, SiC kristallanishini 200 mm ga yetguncha asta-sekin kengaytirish uchun urug'li kristalli iteratsiyani amalga oshiring;Ko'p kristalli o'sish va ishlov berish orqali kristall kengayadigan sohada kristal sifatini asta-sekin optimallashtiring va 200 mm urug'lik kristallarining sifatini yaxshilang.

200 mm o'tkazuvchan kristall va substrat tayyorlash nuqtai nazaridan, tadqiqotlar katta o'lchamdagi kristall o'sishi uchun harorat maydoni va oqim maydoni dizaynini optimallashtirdi, 200 mm Supero'tkazuvchilar SiC kristalli o'sishini o'tkazdi va doping bir xilligini nazorat qildi.Kristalni qo'pol qayta ishlash va shakllantirishdan so'ng standart diametrli 8 dyuymli elektr o'tkazuvchan 4H-SiC ingoti olindi.Qalinligi 525 mm yoki undan ko'p bo'lgan SiC 200 mm gofretlarni olish uchun kesish, silliqlash, parlatish, qayta ishlashdan keyin