4H-yarim HPSI 2 dyuymli SiC substratli gofret ishlab chiqarish qo'g'irchoq tadqiqot darajasi

Silikon karbid substrat asosan Supero'tkazuvchilar va yarim izolyatsion turlarga bo'linadi, Supero'tkazuvchilar silikon karbid substrati n-tipli substrat asosan epitaksial GaN-asosli LED va boshqa optoelektronik qurilmalar, SiC-ga asoslangan quvvat elektron qurilmalari va boshqalar uchun ishlatiladi. izolyatsiyalovchi SiC silikon karbid substrati asosan GaN yuqori quvvatli radiochastota qurilmalarini epitaksial ishlab chiqarish uchun ishlatiladi.Bundan tashqari, yuqori tozalikdagi yarim izolyatsiyali HPSI va SI yarim izolyatsiyasi har xil bo'lib, 3,5 * 1013 ~ 8 * 1015 / sm3 diapazondagi yuqori toza yarim izolyatsiya tashuvchisi konsentratsiyasi, yuqori elektron harakatchanligi;yarim izolyatsiya - bu yuqori qarshilikka ega materiallar, qarshilik juda yuqori, odatda mikroto'lqinli qurilma tagliklari uchun ishlatiladi, o'tkazmaydigan.

Yarim izolyatsiyalovchi Silikon karbid substratli qatlamli SiC gofreti

SiC kristalli tuzilishi uning fizikasini Si va GaAs ga nisbatan aniqlaydi, SiC fizik xossalariga ega;qurilmaning uzoq muddatli ishonchliligi ostida yuqori haroratlarda ishlashini ta'minlash uchun taqiqlangan tarmoqli kengligi katta, Si dan 3 barobarga yaqin;buzilish maydonining kuchi yuqori, Si dan 1O marta, qurilma kuchlanish quvvatini ta'minlash, qurilma kuchlanish qiymatini yaxshilash;qurilmaning chastotasi va quvvat zichligini oshirish uchun to'yingan elektron tezligi katta, Si dan 2 barobar ko'p;issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, Si dan ortiq, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, Si dan ortiq, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori, issiqlik o'tkazuvchanligi yuqori.Yuqori issiqlik o'tkazuvchanligi, Si dan 3 barobar ko'proq, qurilmaning issiqlik tarqalish qobiliyatini oshirish va qurilmaning miniatyurasini amalga oshirish.